中国芯片大时代来了吗？
中兴事件以及中美贸易战刺激了国人的神经，原来我们在芯片设计与制造上和美国的差距还有这么大，我们还不能生产出大量高端芯片，我们在芯片上对国外产品的依赖度如此之高。国家领导人也开始注意这个问题，并提出核心技术靠边缘化是要不来的。政府提出要加快推进国产自主可控替代计划，构建安全可控的信息技术体系。要改革科技研发投入产出机制和科研成果转化机制，实施网络信息领域核心技术设备攻坚战略，推动高性能计算、移动通讯、量子通信、核心芯片、操作系统等研发和应用取得重大突破。
这些政策无论怎么改变措辞，其实和之间都差不多。我们要在高新科技领域，抓住核心技术，加大自主研发成果。但是，中兴事件让很多业内人士曝光了许多在高新技术投资和政策执行上出现的一系列问题。如果政府对这些问题进行好好研究，不断进行整改，也不要一股脑热搞大跃进，相信我国的芯片等高端产业会有更多的突破。但是，我们要对一种说法进行质疑。
如果我们和美国的关系恶化到，断绝一切关系，回到以前研究原子弹那个研发方式，在一个封闭的环境下，努力的克服一切困难最终有好的成果。这种可能方式可不可行？另一种方法，如果把我们现在的状况和上世纪70-80年代，三星大力发展芯片产业的事例和现在的我们对比。我们是否有和当年三星一样的国际环境和决心。第一种，且不说原子弹、氢弹等军事武器和民用芯片有差别，国家可以集中力量，不惜一切代价生产原子弹等军事武器。
芯片是民用产品，其是由市场机制在运转的。我们国家目前是市场经济为主导的，不可能再有国家不惜一切代价大幅度干预做一个产业，政府只能说给予相应的政策支持和产业引导。如果仍然采取干预的方式做芯片，芯片做好了，如果再出一个和芯片一样重要的产业呢？各个产业之间的平衡如何控制呢？干预下的资源倾斜所导致的后果，历史上太多前车之鉴。
最终留下的可能是一个畸形的烂摊子。而三星当年破釜沉舟大力发展芯片产业，高薪请来了很多日本的工程师，并且允许他们随意安排自己的时间，即使兼职也可以。这样，很多日本的设计师和工程师帮助三星转成了产业的巨大进步。当年韩国的国际环境是有美国相应的扶持，并且能够高新聘来人才。如今，如果单靠我国自己的力量，如果无法引进高端工程师，这条路走得会很辛苦。
如何看待任正非说的「发展芯片光砸钱不行，还要砸物理学家数学家」？
砸，本就是指大量投入资源，任正非则指出要双砸、齐砸，这里强调了其中的一个砸，强调是因为过去缺了，主张补上。1 比我们以往听惯了的说法进了很大一步任正非相当于重新给出了高科技发展必备的2个条件，也就颠覆性地刷新了我们的认知。（1）投入巨资经费投入不可缺少。任正非当然没有否认科研经费的必备性，而是重申了，经费投入是因、科技产出是果，关系直接，属于科技界熟知的常识，何况，芯片发展属于高科技范畴。
高科技发展不可缺少的是巨额投入。巨额经费与芯片发展简直是决定和被决定的关系，因为凡属高科技范畴的研发难度不是一般的高，周期不是一般的长，需要花的钱也就不是一般的多，烧更多的钱才能堆出来，其中包括打了水漂的好多钱，一般般的科技研发就需要投不少钱，但与高科技相比就小意思了，用于高科技研发当中属于杯水车薪，无济无事，研发也就属于小打小闹、浅尝辄止，相当于做做样子。
（2）投入大才任正非是在强调人才与大才、基础研究大才与应用研究大才这2个结合、2个关系。人才投入不可缺少。没有一支数量足够的复合型人才队伍，科研是搞不成的，大家都这么说。高科技发展不可缺少的是大才投入。高科技研发不是主要依靠人海战术出成果的，必须得有大才引领。那么，必须有什么样的大才？既要有工程应用大师，又要有、更要有基础建构大师，后者就是任正非口中的科学家，芯片科技研发则特别需要物理学家、数学家等，具有特殊性，而所谓需要，不是需要一个两个，而是需要一个齐全配套的规模性团队。
名副其实的科学家在基础研究上颇有建树。这是科学家的特质，特殊性和差异性的所在，既知其然又知其所以然。有了这样的科研人引领、支撑，高科技研发就能够从底层开始，奠定坚实的基础，应用层的研发也就有了必须有的理论体系维护和发现发明支撑，于是研发出的高科技才会是真正高的，再立足于这样的高，就能够、才能够发展出国际先进和领先的芯片技术。
全是或者主要是依靠应用型大才引领是不行的。必定速度慢多了、成果低多了，摸着石头过河的时候多，而且中间必定会难以为继，摸不到河底的石头，科研处于停滞状态或者叫低水平重复，类似于爬到一定高度就再也爬不上去了，徘徊不前，最后获得和应用的技术则很难是真正的高科技，建造金字塔的愿望必定落空，即便建起了也是建立在沙子上。
2 任正非在指正过去发展芯片方针偏重于砸钱的缺陷确如任正非所说，“过去的方针是砸钱”。从行业顶层到科技企业总结过去科技发展速度不快、仍旧缺芯少魂的原因时曾经总是把“国家拨给经费少”这一条列上。而且列在最前面，紧接着列上的另一条则是“起步晚”。也的确，曾经在经费上谈不上“砸”，不过是“投”而已，少，没办法啊，我们国家经济那时候不像现在这样。
后来不差钱了状态却依旧。国家在若干个领域，比如芯片、比如航空发动机，都是砸钱了，投入了举国之力，但发展还是慢，仍然研发不出核心技术，显然，这就不是钱的问题了！接着，发现原来是“基础研究不足”，没怎么进入必须进入的最前端，任凭美国企业等先入、久驻、深掘、广收进而大力支持应用研究、广收应用技术，我们则是买买买人家的应用技术，进而发现是“基础研究人才不够”，于是，就把这2条也写到科技发展总结中去了，却没有发现任正非所说的“要砸数学家、物理学家等”这一条，也就没有列上。
中国的光刻机与刻蚀机达到世界先进水平，为什么有些人还说中国芯片业依旧前路艰辛？
光刻机和蚀刻机的区别很大，光刻机就好比电影里面的男一号，蚀刻机就好比配角，差距还是很明显的，当然光刻机在芯片制造领域的重要性远超蚀刻机，难度也是蚀刻机远远无法比拟的，光刻机的作用是在处理好的硅片上面印上线路，蚀刻机的作用是把印在硅片上面光刻机画好的线进行刻画出来，也就是说把硅片上面除了光刻机印好的线路外的其他东西去除掉留下线路。
芯片的精密度要求非常的高，都是以纳米级别的要求，世界上最先进的就是荷兰生产的万国牌光刻机，这个光刻机集合了世界上发达国家的最先进零配件，其中最重要的光源和镜片都是德国公司提供的，整个光刻机超过5万个零配件，荷兰自己提供的不到5%，剩下的都是从各国进口购买过来经过特殊的组装而成的，组装这个东西也是非常要技术的。
日本最先进的光刻机只能做到14纳米级别，也没有办法突破7纳米，荷兰的这家公司量产7纳米级别的光刻机，已经成功研制出5纳米级别的光刻机，在光刻机领域现在的日本已经放弃了单独继续研发下去的心思，这也足以说明了光刻机的难度有多高，日本这样的工业强国都干不下去，大家都知道日本的精密机床和摄像头镜片这些都非常的出名，但是日本也在这上面吃瘪。
我们最先进的光刻机是今年刚刚研发出来的22纳米级别的光刻机，但是离7纳米级别的距离还很远，中间还要有一个14纳米级别的砍要等着突破，这的确是一个非常巨大的挑战，想要短时间突破非常的困难，而且对方已经在5纳米级别的门口，短时间内我们肯定没办法赶上，只能一步一个脚印慢慢的摸索突破。毕竟我们是自己在搞，对方是一大群人合伙在分工搞，所以有差别是正常的也是可以接受和理解的，一个国家单挑一群国家，这种气魄已经足够让对方着急和担忧，如果那么容易让我们超越突破了，那那一群国家不就是太废了吗，所以光刻机难研发突破是正常的，不然他们也不会一大堆国家一群合伙在搞了。
我们的工业体系非常的齐全，可以说是全世界工业体系最齐全的国家，我们并不是缺少某一个工业技术产业，我们缺少的是这些工业技术上面的尖端产业，也就是说我们总体可以，体量足够，但是在精这方面存在缺陷，如果能慢慢的把体量里面一些产业提高到质的变化，那我们离尖端科技的不远了。光刻机的难度在于光源和稳定性以及镜头的镜片和工作台，在光源上面我们已经和最尖端的相差无几，我们只是在镜头的镜片上面和移动工作台上还差一点，就是这样一点点的差别就对纳米级别精度来说就非常明显了，用德国研制生产光刻机镜片公司的科技人员的话来说，镜片的要求是放大到200平方公里，整体的平面误差不得超过10厘米，这样的平面精度要求难度可想而知，难怪连日本的索尼和佳能都放弃了。
我们的光刻机只能算三流水平，第一流的是荷兰公司的7纳米级别和5纳米级别，这是独孤求败的级别，第二流是日本的14纳米级别的光刻机，属于次一品的级别，属于第二档次，第三就是我们的22纳米级别，当然跟最好的比还有很大差距，但是能够独立研制出这样的光刻机在世界上已经没有几个国家能够单独做到，这一点就值得我们骄傲，但是差距的确存在，想要突破其实并不容易，可以说困难重重。
蚀刻机技术相对来说就简单上不少，世界上有能力生产出5纳米级别的蚀刻机的国家有好几个，日本就可以，欧洲和美国以及我们自己都有5纳米级别的蚀刻机，而光刻机只有一家，这就是难度的差别，蚀刻机的技术门槛要远远低于光刻机，这才形成了光刻机一家独大，蚀刻机群雄争霸的局面，正视差距埋头苦干才是王道，光吹牛是没用的。
