光刻机制造的芯片和蚀刻机制造的芯片都有哪些区别？
我是睁眼看科技，很高兴回答这个问题。首先，我先表明我的观点，题主的问题根本就没有答案，为什么这样说呢，下面我来解释一下。我想题主可能对芯片制造有误解，它并不是仅依靠光刻机或者仅依靠蚀刻机就能制造出来的，光刻机和蚀刻机在芯片制造都会用到，只是先后顺序的问题。所谓的光刻机全名叫掩膜对准曝光机，它的工作过程非常复杂，非专业人士很难理解，我简单说一下光刻机的制造原理，首先我们要知道光刻胶，这种胶有一种特性，就是它只能被光腐蚀而不能被任意化学物质腐蚀，光刻就是在制作好的硅圆表面涂上光刻胶，然后用光通过掩膜照到硅圆表面，有光刻胶的部分就会被腐蚀掉，没有光刻胶的就会保留下来，这样就形成了栅极，也就是晶体管，我们常说的CPU中集成了上亿的晶体管，就是通过光刻机实现的。
蚀刻机的工作原理跟光刻机其实差别不大，都是通过腐蚀完成的，把经过光刻机处理的硅圆，通过化学溶液，进一步腐蚀掉其中不要的部分，留下的就是我们需要的电路结构。通俗的说，光刻机的作用是制作一个大致的模型，而蚀刻机对模型进一步打磨，完成我们想要的模型结构。不过相对来说光刻要比蚀刻难度要大很多，目前世界上最先进的光刻工艺达到7nm，而5nm工艺正在实验阶段，估计会很快面世，而中国最先进的光刻机只到达90nm，差距还是非常大的，光刻机的产量很低，7纳米的光刻机年产量也只有12台，一台达到上亿美元。
中国中微造出3nm刻蚀机，与荷兰ASML光刻机还有多大差距？
科学的东西太尖端、绕口令似的解释，咱也听不明白，打个比方跟您说吧。光刻跟蚀刻是两种不同领域里使用的技术，光刻机和蚀刻机就是那不同领域里进行作业的工具，虽然他们进行的是同一个产品作业，但工序不一样。就像做一件衣服，光刻是在设计样式、尺寸并绘制图形，蚀刻是进行分割、裁剪。一件衣服究竟怎么样，不仅看设计的好不好，线条划没划歪；也要看分割得好不好，剪没剪走形。
