▲中国光刻。武汉弘芯抵押了一台顶级光刻机，中芯国际能不能借助这台机器实现巨大突破呢？从网络上的消息来看，武汉弘芯从ASML公司购买的光刻机号称是“中国最高端的机器”、“唯一可以生产7纳米芯片”。中国目前光刻机技术最强的是上海微电子，生产的光刻机在90nm阶段，处于光刻机技术的最后一档。
中国能做3纳米的光刻机吗？
一、中国目前的技术在90nm，最先进的ASML也是5nm，3nm无人能造首先回答问题，那就是不能，目前中国量产的光刻机技术是90nm，90nm之后还有N个台阶，离3nm的差距，至少是10年起步。中国目前光刻机技术最强的是上海微电子，生产的光刻机还在90nm阶段，处于光刻机技术的最后一档。如上图所示，中国的SMEE处于低端，也就是90nm，而日本canno也处于这一档，而Nikon处于7-28nm。
而技术最强的ASML目前的技术是5nm/7nm技术，也没有3nm技术，所以现在说3nm真的是太早太早了。二、光刻机的核心技术是什么，为何这么难？那么光刻机的核心技术是什么，为何这么难？其实从元件来看，核心元件是镜头，因为光刻机的原理是放大的单反，用光把电路图刻画在硅片上，一次又一次，一层又一层的刻画。
十年内中国能做出光刻机吗？
这个问题提得有问题，中国早就有光刻机了。只不过是中低端的，能生产22纳米的芯片，不能生产7纳米以下的高端光刻机。十年内能否生产出高端光刻机，这个很难说，现代科技日新月异，更新换代很快。有的发明一两年就过时了。象影碟机，传唤机，磁卡电话，变化周期非常短。过去日本电视的摸似技术最好，美国来个数码技术，一下就把摸似技术甩出几条街。
一台ASML7纳米光刻机月产能有多大？
中芯国际斥资1.2亿美元向ASML购买了一台7nm光刻机，那中芯国际多久能回本？7nm的ASML一月产能多少？ASML的7nm光刻机分为两个型号：NEX 3400B和NXE 3400C。台积电使用的就是3400B光刻机，它一小时能生产125片晶圆，一片8000美元，一天马不停蹄的工作，产能2400万美元，一月7.2亿美元；3400C，产能每小时170片，同样的计算方式，一月9.8亿美元。
所以，中芯国际花1.2亿美元购买一台光刻机，理论上一周就能回本，是稳赚不赔。将来是否还能购买ASML光刻机？全球只有ASML能生产7nm光刻机，此前中芯国际购买的7nm光刻机，曾因为美国主动的《瓦森纳协定》扣留。那么今后，我们是否还能坐享其成，购买的ASML的光刻机？答案是否定的，美国对华为已经制定了更细致，更精准的制裁手段。
中芯国际虽然没有在列，但按照美国2019年的“实体清单”做法，可能会有更多中国企业别列入。我猜，将来中芯国际也难逃美国的魔掌。到底我们自己能不能造光刻机？ASML有个奇特的规定，只有投资ASML，才能获得优先供货权。所以，台积电，特尔、三星、台积电、海力士等都是ASML的股东，ASML也就有着充足的资金支持。
所以，ASML并不是荷兰的ASML,而是整个西方的ASML。有血性的中国人听到美国的制裁，都说：我们自己造，当年“两弹一星”我们都能造出来。虽然我也不想承认，但必须得承认：眼下我们造不出来！ASML用的镜头是德国蔡司的，打破摩尔定律的EUV光源，全球只有ASML。所以，无论是资金还是技术上，眼下我们都无法替代ASML。
中国要造出5nm的光刻机需要多长时间呢？
光刻机，就是用光线在硅晶圆上刻画出电路图来。所以最核心的分为两方面：一是技术，二是工艺。落实到具体的对象上，就是镜头和激光光源，以此来分析中国在这两项技术上的所需的进程，就能大致了解中国造出5nm的光刻机需要多长时间了。为何非要5nm这个参数级的光刻机中国的中芯国际最近向荷兰的ASML成功订购了一台光刻机，但生产最高极限是7nm的芯片，要想突破7nm的这个技术瓶颈，就必须使用EUV（极紫外光源）技术，这所购的这台光刻机不含EUV光源的技术。
不是可以买吗？但买到。因为：EUV（极紫外光源）研究是多个国家参与的（包括美国）。根据《瓦森纳协定》美国就可以决定不卖给你。上面说的中芯国际订购的7nm芯片的光刻机，如果美国要使坏，要想成功订购也是不容易的。20年前明确的目标，是5nm的EUV光刻机研发的最佳时间早在1999年，EUV光刻机的地位就已经很明确了，谁有了EUV光刻机的技术，谁就有了芯片领域的未来。
1997年的时候，美国的多家企业就发现了EUV技术商业价值，就联合进行了开发，也已明确了目标，这是全世界都不是什么秘密，中国没有进行相应的产业调整和重视。研发5nm的EUV光刻机所需的资源5nm的光刻机，必然要用到EUV技术，美国研发的最早，我们看一下世界范围内关于EUV技术研究和投入的情况：1、美国美国对EUV技术的研发时间最长，总共投入了50多个高校和科技企业进入到这个领域，最终在EUV光刻机领域，美国的占领先地位，收益也是最大的。
2、欧洲对于EUV光刻机看的最重，联合了35个国家，共110多个高校和企业加入到研究的行列中。3、日本和韩国投入相对较小，但也有一定的成果就是说，EUV（紫外光源）的研究是多个国家参与的，包括了美国、欧洲多国还有日本、韩国，美国出力最多，所以不买给中国。结论：几十个国家，上百所研究单位，花费了20多年的时间，才研发出今天的EUV光刻机，实现了5nm级别制程的芯片。
到底研究了啥要生产EUV光刻机，最关键和核心的研究课题有两个：镜头和激光光源。1、镜头现在世界上高端光刻机使用的是德国的卡尔蔡司光学镜头，世界上没有哪家公司能够复制卡尔蔡司的技术。从长远观点看，中国也应发展自己的高端镜头产业，但中国与德国的关系还算可以， 不妨先拿来用，一边用一边研究，这样可以减少研发时间。
2、激光光源这个核心技术是必须研究的，因为美国把持着《瓦森纳协定》，中国处在被禁运国家之列。就是说只要美国干预，中国将无法获得EUV光刻机。因为这个EUV技术，美国和欧洲几十个国家（包括日本和韩国）研究了20多年，中国需要用多久呢？心里应该有一个底了吧。综上所述，中国要研发EUV技术需要投入相当大的资源，当然中国是一个工业部门齐全的大国，集中力量办大事是中国制度的优点，但是，研发需要遵重科学规律，要有一个过程，像欧美日韩都需要近20年时间，那们打个折扣，总需要10年吧。
为什么全世界只有荷兰能够制造顶级的光刻机？
首先，ASML在光刻机领域是无可争议的世界霸主。↑光刻机是芯片生产中必不可少的设备↑ASML是一家荷兰公司，又叫阿斯麦，是一家专门生产光刻机的企业。所谓的光刻机，是生产芯片的最为关键的设备之一。具体光刻机是用来干什么的，可以参考我之前写的一篇答案：《生产芯片用的蚀刻机和光刻机有什么区别？》地址是：https://www.wukong.com/question/6545436431743975687/↑神一样的ASML的光刻机↑这家公司可以说是世界上最顶尖的光刻机生产商，而且即便是世界第二也已经被远远甩在了后面，现在其最先进的EUV（极紫外光）光刻机已经能够制造7nm以下制程的芯片了，单台光刻机的售价已经超过了一亿美元，而且还不是现货。
相比之下，中国完全自主生产的光刻机只有可怜的90nm制程，差了一大截。那么为什么荷兰这么小的一个国家可以拥有这么顶级的企业呢？原因一：ASML出身名门。ASML并不是一家白手起家的公司，而是从著名电子制造商飞利浦独立出来的一个公司，背后肯定有相关的人员、经济上的资助。原因二：不拘一格降人才。与我们想象中不同，ASML的光刻机中超过90%的零件都是向外采购的，这与他原来的对手，尼康和佳能是完全不同的。
正是因为这样的政策，使得他们能够在整个设备的不同部位同时获得世界上最先进的技术，而他们自身也可以腾出手来在部件整合和客户需求上做文章，从而在日新月异的芯片制造行业取得竞争优势。而这种高新技术行业马太效应特别明显，一旦有一点差距，很快就会迅速拉大。原因三：对核心技术的掌握。最先进的EUV光刻技术，ASML拥有世界第二的专利申请量，说明即便是广泛地外包零件，他们依然对核心技术有着不懈的追求。
↑蔡司也是ASML的合作伙伴，负责光学模组的生产↑原因四：独特的合作模式。ASML有一个非常奇特的规定，那就是只有投资ASML，才能够获得优先供货权，意思就是要求他自己的客户要先投资自己才行。这样奇特的合作模式使得ASML获得了大量的资金，包括英特尔、三星、台积电、海力士都在ASML中有相当可观的股份，可以说大半个半导体行业都是ASML一家的合作伙伴，形成了庞大的利益共同体——就算是技术研发出现了失误，英特尔挤挤牙膏就好了，并不会威胁到ASML的市场占有率。
而且不仅仅是来自合作伙伴的资金支持，更多的还有技术支持。比如说刚刚提到了ASML在EUV光刻技术上拥有世界第二的专利申请量，而世界第一是德国的蔡司公司，第三是韩国的海力士公司，而这两家公司都是ASML的合作伙伴。中国相关企业可以学习什么？我觉得可以从以下几个角度来借鉴ASML成功的经验：1）充分利用国内的资金和政策支持。
比如说阿里已经投身AI芯片研发、华为海思则在芯片领域已经耕耘许久——而中兴事件也给了他们一个教训，不可对外国的支持太过于依赖，而这种不安全感、对技术的追求和海量的研发资金和人才储备，都是可以充分利用的资源；２）分散进攻，不搞大包大揽。一些零件可以外包，甚至于可以暂时使用国外的零件、日后再寻求替代，总之就是不把复杂的光刻机的全部压力放在一家企业上，而是利用整个国家、甚至于全世界的资源。
如果asml放开专利，中国可以造出7nm光刻机吗？
专利反而不是制约我们造出高端光刻机的关键。说白了，专利是用公开的手段换取科技控制权，不公开就没有专利权，所以保密性和专利权一般不可兼得，除非公布的技术方案里，故意隐藏一些技术参数或者关键点，但是这样无法完全保护产生专利保护。而对于光刻机，ASML有很多压箱底的保密技术，不会轻易泄露，而且高端光刻机的制造难度更在于，它是全球顶尖科技工艺的汇集，并且通过顶级芯片代工企业，在生产实践中的不断验证和强化。
光刻机的制造目前被荷兰ASML、日本尼康和佳能、中国上海微电子四家所把持。我国虽占一席之地，但只限低端设备。下面试着分析一下专利对光刻机制造的影响。光刻机的专利重要吗日本在光刻技术和光刻机制造领域起步较早，所以，日本的专利申请量最多，而且除了在本国大量布局之外，日本也比较重视在美国、韩国、中国台湾和中国大陆的专利布局。
日本光刻有先发优势，在中低端光刻机的研发投入了大量精力，也布局了大量相关专利，所以在中低端光刻技术上，实力还是很雄厚的。但是ASML后来居上，专注研发，且核心技术绝对保密，在专利建设上，也超过了尼康和佳能。近几年关于高端EUV光刻机的专利数量，排名第一的是老牌王者卡尔蔡司（Carl Zeiss），ASML位列第二名，再依次为海力士、三星，它们同时也是ASML的合作伙伴，日本尼康及佳能分别位列第四及第六位。
所以高端EUV光刻机的专利壁垒还是很高的。但需要注意：ASML深藏不漏的核心机密技术，是更具价值的。高精度光刻机的技术难点ASML的成功是全球顶尖工艺的汇集和芯片代工企业在生产实践中的不断验证和强化。它集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域等多项顶尖技术。
第一难点在于顶级的镜头来自独一无二的蔡司。现在世界主流的极紫光刻机的紫外光线来说要想达到13.5纳米的水平，那么物镜的数值口径要达到1.35以上，要达到这个口径很难，因为要加工亚纳米精度的大口径的镜片，用到的最大口径的镜片达到了400毫米。目前只有德国的光学公司可以达到，当然，日本尼康通过购买德国的技术也可以达到。
但浸没式光刻物镜异常复杂，涵盖了光学、机械、计算机、电子学等多个学科领域最前沿，二十余枚镜片的初始结构设计难度极大——不仅要控制物镜波像差，更要全面控制物镜系统的偏振像差。因此，在现阶段国内物镜也无法完全替代进口产品。第二难点在于13.5nm EUV的极紫光源。业内巨头台积电及英特尔的7nm工艺使用的是浸入式ArF的光刻设备，但沉浸式光刻在7nm之后的工艺节点，难以再次发展，EUV成为了解决这一问题的关键，目前EUV光刻机光源主要采用的办法是将准分子激光照射在锡等靶材上，激发出13.5nm的光子，作为光刻机光源。
ASML也是通过收购了全球领先的准分子激光器厂商Cymer，才获得光源技术的保障。我国在实验室绕过专利壁垒实现了9nm光刻2016年底，华中科技大学国家光电实验室目前利用双光束在光刻胶上首次完成了 9nm 线宽，双线间距低至约 50nm 的超分辨光刻。未来将这一工程化应用到光刻机上可以突破国外的专利壁垒，直接达到 EUV 的加工水平。
据说，与动辄几千万美元的主流光刻机乃至一亿美元售价的 EUV 光刻机相比，我国的新技术使得光刻硬件只需要一台飞秒激光器和一台普通连续激光器，成本只是主流光刻机的几分之一。但一个产品从实验室，走向最后的落地，何其漫长艰难。结论是专利不是我们自主高端光刻机的最大难点光刻机在芯片制造过程中起着至关重要的作用，再难也要坚持攻关，为了使我国的半导体产业链不受制于人，我们需要加快光刻机的研制步伐，刻不容缓。
武汉弘芯半导体抵押的ASML光刻机，中芯国际可以买来使用么？
武汉弘芯抵押了一台顶级光刻机，中芯国际能不能借助这台机器实现巨大突破呢？从网络上的消息来看，武汉弘芯从ASML公司购买的光刻机号称是“中国最高端的机器”、“唯一可以生产7纳米芯片”。但真相并非如此，企业都会打广告，这个“中国最高端机器”也是武汉弘芯的一个噱头，它没有办法给中芯国际带来任何实质性的提升。
先来讲一讲这个武汉弘芯，它的命运其实颇有戏剧色彩（后文简称武芯）。武芯这件企业成立于 2017 年 11 月，是一个非常年轻的集团，它刚刚成立的时候就目标远大：总投资金额200亿美元，预计建成7纳米及以下的生产线、每月生产3万片。可以说，武芯一开始就气势惊人。为了实现目标，武芯人员、设备两手抓，先是从台积电挖来了业内有名的蒋尚义博士，后来又高价去荷兰的ASML公司购买光刻机。
其中，蒋尚义是芯片领域的知名人物，带队进行了从0.25μm到16nm等关键技术的研发，是台积电的前COO，中芯国际的董事（2016年）；武芯从海外买过来的光刻机，也号称是中国内部最顶级的机器，可以完成7纳米芯片的生产。武汉弘芯甚至请来了蒋尚义武芯的动作看起来非常大，但其实是水分居多。它购买的光刻机是NXT系列中的1980Di，这其实是一台DUV机器，它的分辨率和精度要低于目前最顶级的EUV机器。
并且即便是在NXT系列当中，武芯的1980Di也不是最顶级的，还有更厉害的2050i。客观来说，武芯的机器只是一个噱头，1980Di确实可以生产7纳米芯片，但这会大大降低芯片的良品率。更重要的一点是，1980Di并不是武芯独有的产品，中芯国际当中也有不少的1980Di，它不需要购买这台被武汉弘芯抵押的高端产品。
武汉弘芯遇到资金问题，抵押光刻机应急目前来看，武汉弘芯似乎是前路已尽了。高薪聘请的蒋尚义在2020年6月辞去了一起职务，专心做起了中芯国际的执行董事、副董事长，高价购买的1980Di光刻机也因为债务问题被抵押给了银行。对于这家企业来说，尽快把1980Di机器卖出去，似乎才是最好的选择。至于能不能转卖？卖给谁?就要靠武汉弘芯的能力了。
当然，武汉弘芯如果肯沉下心来，不好高骛远地挑战7纳米以下，而是转战其他芯片赛道，还是有可能东山再起的，也算是为中国经济发展做贡献了。武汉弘芯的烂尾楼至于中国企业被美国卡住芯片脖子的事情，这和中芯国际如何购买光刻机其实没什么关系。即便中芯国际成功购买了最顶级的光刻机，它还是没有办法替华为生产芯片。为什么？因为ASML企业的光刻机大量使用了美国技术和美国零件，美国针对这些东西进行了技术封锁，所以哪怕中芯国际拥有了顶级光刻机，它依然要被美国牢牢地卡住脖子。
如何打破这种技术封锁呢？只能是依靠中国自主的技术研发，或者凭借新的技术专利打入ASML企业的研发序列（一旦ASML产品中也有不可替代的中国专利，美国的技术封锁就成了害人害己），或者是中国自行研发光刻机，尽量从科技上追平与世界的差距。不过，更有可能的一种情况是：随着中国实力逐渐增强，中美贸易程度不断加深，美国最终自愿或者被迫放弃了对中国的无理的、无效的技术封锁。
荷兰ASML阿斯麦不卖中国光刻机，为啥却中国无锡建服务中心？
昨天各大媒体纷纷报道荷兰ASML技术服务基地落户与江苏无锡，这一下让不少关心光刻机的网友激动，很多人以为这就是荷兰ASML要在我们国内建立光刻机生产工厂了。然而实际究竟是什么样呢？下面来进行接受。相关新闻报道内容：无锡高新区管委会与阿斯麦（ASML）公司正式签署了战略合作协议，后者将在原有基础上对资源进行整合提升，加速扩建光刻设备技术服务（无锡）基地。
然而仔细读完这个新闻报道，你就会发现荷兰的ASML并不是在江苏无锡建立光刻机生产工厂，它只是在江苏建立一个技术服务基地，主要用于更加方便的为它的客户服务。这个服务中心包含了两大业务板块1、面积超过2000平方米，拥有近200人的技术服务中心，负责光刻机的维护、升级等服务。2、面积超过2000平方米的供应链服务中心，为它的用户提供高效的供应链服务，为各种流程提供更加高效的物流支持。
因此这不是什么光刻机生产工厂，ASML在深圳以及国内其它的城市也是有研发分公司，并且在前几年就和无锡有过相关的合作。而这次再次进行握手合作，是因为我们国家是对芯片需求量巨大，比较多的公司都是它的客户，建立服务中心就是为了更加好的服务客户。荷兰ASML不出售我们光刻机这件事也要从国内中芯国际花一亿多美元订购的EUV光刻机说起，本来双方说的是上年就可以交货，然而到现在也是没有什么动静。
这主要还是迫于老美的压力，因为荷兰ASML光刻机的一部分技术也是由一些美国公司提供。这其中有一个以西方国家带头《瓦森纳协定》也是限制我们的芯片技术，例如光刻机的必备关键器件镜头来说，一直是德国的蔡司做的最厉害。而蔡司镜头根本不对我们出售，它的技术也是经过几十年甚至上百年的技术沉淀而来。并且ASML也是有一条规定，是它的股东可以优先得到最新的光刻机，其它的公司想要购买只能去排队。
像三星、台积电这两家公司都是它的股东，都是可以优先获得光刻机。而一部分网友也在西安国际机场见到光刻机卸机，这是三星西安工厂订购的光刻机，主要用于生产内存颗粒，并不能够生产顶级手机芯片。仅仅靠着荷兰ASML一家也是做不出顶级光刻机，它也是靠着全球各大顶尖公司的技术进行相关整合而来。就算是它非常看中我们国内的市场，但是也是很无奈，也要受制于老美。
因此也就不存在说什么建立光刻机工厂了，想买到它的光刻机都不容易。别人是不可能会给我们光刻机技术，同时也没什么某些人嘴里说的所谓科学无国界说法。光刻机想要进行赶超，还是需要自身的不断自力更生，不断的加大研发投入，进行相应技术积累。像我们以前在2G、3G网络时代都是受制于人，而在4G时代实现了追赶，如今的5G时代我们实现了超越。
中国研制出世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机，在世界上属于什么水平？
魂舞大漠注意到了11月29日的消息，一内行有这样的评述，实事上，又一颗大白菜又被兔子给拱了。呵呵，我们高兴。有一门外汉却说了，这个只是实验品，用于芯片厂的我们有吗？还没有高精度镜头，也没有高精度对准技术，精度只是阿斯麦的十万分之一，可是我们看到，中芯国际订购的7纳米级EUV明年就到货了呢，噫，向来依据“瓦纳森协定”，这种光刻机可是对我严格禁止出口的，这又是怎么回事？美国挥动制裁大棒，制裁中兴，不过眼巴前发生的事呀，让我们通过实事，来戳穿一些谎言，一观实事真相如何？先来理清这位门外汉的迷雾，他说的这些，对我们来说都有了，技术上在国际上领了先，且领先不是一星半点，只是他根本不懂，人云亦云罢了。
仅光电所在国际上申请的专利就有4项，其它4项已被人申请。通过研发，所可喜的是，人才队伍已是兵强马壮，技术上拨开了迷雾，已来到了一个大的突破期。光电所的精英们说了，可以保证，下一步就是弯道超车的问题。好了，下面就让我们来做番梳理。▲名字之下。藏多少猫腻，英文不好，不关注科技者，不知ASML在我们这就叫阿斯麦，而艾司摩尔正是台湾的叫法，其台积电占有5%的股权。
韩国三星3%，英特尔有15%，荷兰这家公司，不过，大国协作的产物，什么美国的光源，德国蔡司镜头等等，他们都是该公司的股东，因此成就了ASML的名头。由于很多技术突破了物理的极限，使用的名词，不为寻常百姓所熟知，突破了极限，要的是精度，芯片体积才可以造的越来越小呀。中国每突破一极限，美国为代表的西方国家，即开始对中国出口相关产品，成为规律，谁不挣钱都着急，2015年刚说要将65纳的设备给我们，今年阿斯麦就宣布，7纳的光刻机对中国一视同仁，嘻嘻，谢谢您的仁慈，谁都能听出来，中国没有的话，实事上根本不可能，不少喷子纳闷极了，我们的进步，有这么快？是的，由不得你眨下眼睛。
国际上现在最先进的芯片也就是这个水平了，中兴还是回国创业吧。▲新闻背后。光刻机是集成电路产业的一颗最璀璨的明珠，闪烁着高难问的光辉，如同航空产业的发动机一样，由于技术门槛非常之高，一般人拱不动的，日本由于收购德国亚深，掌握了深紫外光源技术和物镜技术，其尼康和佳能也能做22纳的水平，这些年还是发了些财的，所以每谈及日本芯片，总有人投去羡慕的目光。
我们收不动，大约也只能自家研发，透过新闻报道，我们可以看到，我们走了一条不同的路，取得了更高的精度，有称世界首台用紫外光源实现22纳的EUV，采取多次曝光技术可以实现10纳，我们不吹，10纳以下是一个级别，所以7纳亦可有望实现之。至少打破了禁运规则，他们再想赚钱，不得不重新审定，只是手里还有吗？由此看来，人家比咱们有些人要明白，能赚则赚，这回中国先，要来几台？所以新闻说，可以达到一致的水平。
年初要制裁，年底被打脸，这一掌掴出了深紫之血。▲中国光刻。我们使用的光源，为固态深紫外，不同于阿斯麦的离子束，我们的优点比较细，可使设备小巧得多，成本还低。二看物镜的镜片，荷兰使用的是磁流变和离子束，辅之以手工，加工慢，人工成本自然就高，我们则实现了全自动。此二者都是日本根本不可能完成的。以现在的技术，产业以后，以其寿命长，产率高，可以白菜价占领14纳的市场。
致于极紫外的，现在都在努力，据说0.1纳的镜片，我们已攻克，上面镀的一层原子膜，中国说是第二，无人敢讲第一。据悉日本不敌已败走，阿斯麦为此正在吭哧憋肚。年初中芯花钱买来的7纳EUV，每台1.2亿美刀，我们的量产后，不过千万级。请记住，2018年11月29日，这一天是有重大意义的，魂舞大漠去各大网站走了一遭，看到网友们无不为咱们取得的成就欢欣鼓舞。
