我不确定中国需要哪些具体的核心技术。我国急需解决的核心瓶颈技术是集成电路芯片制造技术。我们的掩模对准器技术缺少什么？目前，电子技术主要包括集成电路技术及其带来的应用技术。这个问题其实挺宽泛的，国内有很多领先的技术。我就说几个我觉得国内最好的技术。
目前中国需要哪些核心技术？缺哪些技术科技？
中国需要哪些具体核心技术，我不是很清楚。但可以说一下个人看法。 实际上，人类科技发展的前沿就在电磁技术的应用，或者是电磁技术下诞生出的电子技术，以及电子信息技术。 目前，电子技术主要包括集成电路技术，以及由此带来的应用技术电子计算机技术通信技术互联网络技术人工智能工程控制系统和各种动力控制系统。
总之，人类目前的顶级前沿科技就是归纳表现在各种集成电路芯片技术方面。也就是说，一个国家的科技发达程度，完全由这个国家的集成电路芯片制造技术决定。因此，中国急需解决的核心瓶颈技术，就是集成电路芯片制造技术。 目前，国际上的集成电路技术，单三极管尺度已达6个纳米，中国还刚达到10个纳米。
集成电路制造技术需要精密的光刻技术，目前只有日德两国可以达到10的负12次方米精度，我国要想掌握顶级集成电路芯片制造技术，必须掌握精密的光刻技术。 中国是世界上少有的工业体系最完整的国家，各种实用技术和发明都有，基本都可制造，就是顶级集成电路芯片技术不行！目前低档的集成电路芯片也能制造。
如果咱能发明，或搞到精密光刻技术，咱就是十全十美了！你得记住，中国没有科学上的钻头级人物，打开科学矿面，不行！但中国矿工级科技人才，遍地都是！他们给中国带来巨大的科技应用转化能力！所有的科学应用技术，中国都会有，而且创新转化能力，没有一个国家能比得上！未来中国再出几个钻头，科学钻头，中国的腾飞无人能压制！。
一台光刻机需要哪些技术？当前中国缺哪些技术？下一代光刻机？
感谢您的阅读！你认为光刻机需要哪些技术？我们先来说一下光刻机它所需要的零部件，用ASML的首席执行官Peter Wennink的话来说，光刻机包括有80000个零件，其中许多零件非常复杂，这对于我们来说确实比较难以接受，但这是事实。为什么我国在光刻机领域目前发展受到一定的牵制？一方面是因为光刻机本身的零部件相对复杂，对于很多零部件来说都是国际社会中，多个领域共同涉及的，我们想要进口这些光刻机零部件，可能会受到多方面的阻挠。
另外一方面，因为西方国家的瓦纳森协议，实际上是阻止了我国技术的进步。所以，我们目前为止在光刻机领域确实发展相对缓慢，上海微电子目前所推出的是90纳米光科技，其实在2021年可以推出28纳米工艺的光刻机，也需要一定的时间。而且我们也非常清楚它和ASML的差距还是占据着不小的差距。我们光刻机技术到底缺席哪些东西？你可以看到光刻机的构造中有非常多的内容，他不仅仅包括光源系统还包括，环境控制系统，掩膜传输系统，工作台系统等等。
我们想到的是，可不可以通过使用碳基材料来解决芯片的问题呢？一方面我国的碳基材料的研究比较深入，并且能够很容易解决芯片方面的问题另一方面，碳基材料对光刻机没有太大的依赖，甚至不用光刻机也可以。所以，我们猜测是不是可以不使用光刻机也能够解决芯片的问题。不过，我还是认为到底这些弯道超车到底能不能成功？还需要更长时间的检测才可以。
制造CPU需要哪些技术，中国在其中哪几项落后国外？
简单聊一聊吧！从芯片制造方面来说，更重要的是主机厂的生产技术，具体生产过程中需要光刻机的核心技术和设备。就这两项而言，我们大陆厂商至少落后510年，如果未来不积极加大投入，集中资源，可能会落后更久。再来说说中国主机厂的发展。目前，中国台湾省的TSMC是最好的代工企业，排名世界第一，其次是mainland China的SMIC。
