中国的光刻机与刻蚀机达到世界先进水平，为什么有些人还说中国芯片业依旧前路艰辛？
光刻机和蚀刻机的区别很大，光刻机就好比电影里面的男一号，蚀刻机就好比配角，差距还是很明显的，当然光刻机在芯片制造领域的重要性远超蚀刻机，难度也是蚀刻机远远无法比拟的，光刻机的作用是在处理好的硅片上面印上线路，蚀刻机的作用是把印在硅片上面光刻机画好的线进行刻画出来，也就是说把硅片上面除了光刻机印好的线路外的其他东西去除掉留下线路。
芯片的精密度要求非常的高，都是以纳米级别的要求，世界上最先进的就是荷兰生产的万国牌光刻机，这个光刻机集合了世界上发达国家的最先进零配件，其中最重要的光源和镜片都是德国公司提供的，整个光刻机超过5万个零配件，荷兰自己提供的不到5%，剩下的都是从各国进口购买过来经过特殊的组装而成的，组装这个东西也是非常要技术的。
日本最先进的光刻机只能做到14纳米级别，也没有办法突破7纳米，荷兰的这家公司量产7纳米级别的光刻机，已经成功研制出5纳米级别的光刻机，在光刻机领域现在的日本已经放弃了单独继续研发下去的心思，这也足以说明了光刻机的难度有多高，日本这样的工业强国都干不下去，大家都知道日本的精密机床和摄像头镜片这些都非常的出名，但是日本也在这上面吃瘪。
我们最先进的光刻机是今年刚刚研发出来的22纳米级别的光刻机，但是离7纳米级别的距离还很远，中间还要有一个14纳米级别的砍要等着突破，这的确是一个非常巨大的挑战，想要短时间突破非常的困难，而且对方已经在5纳米级别的门口，短时间内我们肯定没办法赶上，只能一步一个脚印慢慢的摸索突破。毕竟我们是自己在搞，对方是一大群人合伙在分工搞，所以有差别是正常的也是可以接受和理解的，一个国家单挑一群国家，这种气魄已经足够让对方着急和担忧，如果那么容易让我们超越突破了，那那一群国家不就是太废了吗，所以光刻机难研发突破是正常的，不然他们也不会一大堆国家一群合伙在搞了。
我们的工业体系非常的齐全，可以说是全世界工业体系最齐全的国家，我们并不是缺少某一个工业技术产业，我们缺少的是这些工业技术上面的尖端产业，也就是说我们总体可以，体量足够，但是在精这方面存在缺陷，如果能慢慢的把体量里面一些产业提高到质的变化，那我们离尖端科技的不远了。光刻机的难度在于光源和稳定性以及镜头的镜片和工作台，在光源上面我们已经和最尖端的相差无几，我们只是在镜头的镜片上面和移动工作台上还差一点，就是这样一点点的差别就对纳米级别精度来说就非常明显了，用德国研制生产光刻机镜片公司的科技人员的话来说，镜片的要求是放大到200平方公里，整体的平面误差不得超过10厘米，这样的平面精度要求难度可想而知，难怪连日本的索尼和佳能都放弃了。
我们的光刻机只能算三流水平，第一流的是荷兰公司的7纳米级别和5纳米级别，这是独孤求败的级别，第二流是日本的14纳米级别的光刻机，属于次一品的级别，属于第二档次，第三就是我们的22纳米级别，当然跟最好的比还有很大差距，但是能够独立研制出这样的光刻机在世界上已经没有几个国家能够单独做到，这一点就值得我们骄傲，但是差距的确存在，想要突破其实并不容易，可以说困难重重。
蚀刻机技术相对来说就简单上不少，世界上有能力生产出5纳米级别的蚀刻机的国家有好几个，日本就可以，欧洲和美国以及我们自己都有5纳米级别的蚀刻机，而光刻机只有一家，这就是难度的差别，蚀刻机的技术门槛要远远低于光刻机，这才形成了光刻机一家独大，蚀刻机群雄争霸的局面，正视差距埋头苦干才是王道，光吹牛是没用的。
