▲中国光刻。中国目前光刻机技术最强的是上海微电子，生产的光刻机在90nm阶段，处于光刻机技术的最后一档。就是说只要美国干预，中国将无法获得EUV光刻机。90年代末，光刻机的光源采用的是193纳米的氟化氩激光。中国每突破一极限，美国为代表的西方国家，即开始对中国出口相关产品，成为规律，谁不挣钱都着急，2015年刚说要将65纳的设备给我们，今年阿斯麦就宣布，7纳的光刻机对中国一视同仁，嘻嘻，谢谢您的仁慈，谁都能听出来，中国没有的话，实事上根本不可能，不少喷子纳闷极了，我们的进步，有这么快？，由不得你眨下眼睛。...
更新时间：2022-04-11标签： 光刻机纳米首台国产国产90纳米光刻机有用吗中国首台5纳米光刻机 全文阅读