我国的光刻机5纳米生产技术要多久才能突破？
我国的光刻机5纳米生产技术要多久才能突破？随着科技不断的发展，全球竞争已经不仅仅在于军事和经济，更多的战火波及到了科技领域，尤其是在美国对华为制裁的事件不断升级的情况下，芯片的关注度也越来越高。最近有很多自媒体人为了追求流量都在传播“5nm光刻技术获得重大突破”的传闻，但是事实是什么呢？我们一起来看一下吧。
我国科技企业已经实现弯道超车，但是芯片仍是短板在国家和各行各业的重视下，我国在科技方面尤其在互联网和通信领域实现了完美的弯道超车，但是芯片产业却摆脱不了需要大量进口的处境。近年来，我国集成电路发展非常迅速，人工智能、智能制造、汽车电子、物联网、5G等为代表的新兴产业快速崛起，集成电路是我国信息技术发展的核心，但是根据相关媒体报道称，2019年中国集成电路进口数量为4451.34亿个，同比增长6.6%；2018年中国集成电路进口数量为4175.67亿个，同比增长10.8%。
在进口金额方面，2019年中国集成电路进口金额为3055.5亿美元，同比下降2.1%。在华为事件出现之后，越来越多的企业和国人意识到，自研芯片的重要性，芯片实现国产化也迫在眉睫，因此我们现在迫切需要有自主制造芯片的能力。我国芯片设计已经能自主，但是生产制造仍是短板根据很多媒体的报道，我们可以看到华为海思、紫光展锐等科技企业已经能够实现芯片架构的自主设计，但是对于芯片制造领域，我国暂时没有企业可以代替台积电的地位。
尽管中芯国际已经可以生产14nm制程工艺，但是这无法和台积电相媲美。因此，如过想彻底摆脱国外的威胁，这条路仍旧是任重道远。那么我国什么时候才可以突破5nm技术呢根据媒体在近日的报道，中国权威机构中科院苏州研究所已经研发成功了新型5nm高精度的激光光刻技术，标志着我国的5nm光刻技术取得了重大进展。根据相关报道称，这项技术和ASML的EUV极紫外光刻完全不同。
美国能否以一己之力独立制造出当今最先进的5纳米极紫光刻机？
实事求是地讲，美国不但有这个能力，而且具有这种技术。为什么会如此肯定？其实原因很简单，那就是荷兰ASML（阿斯麦）极紫外光刻机的核心技术正是来自于美国。目前能生产极紫外光刻机的厂家唯有荷兰阿斯麦，很多人认为这是阿斯麦的核心技术，实际上这技术来自美国。90年代末，光刻机的光源采用的是193纳米的氟化氩激光。
随着摩尔定律的推演，氟化氩激光的潜能即将耗尽。简单介绍一下摩尔定律。摩尔定律是由英特尔创始人摩尔提出的，他认为集成电路的晶体管数每两年增加一倍。通俗的讲，就是处理器芯片的性能每两年就要翻倍。按照摩尔定律，芯片性能肯定不会因氟化氩激光的潜能被榨干而停滞不前，半导体行业必须要寻找新光源替代。随后，高功率二氧化碳激光器浮出水面，其发射的极紫外光波长为13.5纳米，仅为氟化氩激光193纳米的7.1%。
