我国首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备和目前最先进的光刻机有什么区别呢？
媒体又在乱吹，这对科技进步是不利的，错误引导大家。首先这款刻录机只是刻录，并不能造芯片。从这篇文章的作者得知，“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成了一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权，为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具”。
也就是说，这款刻录机的应用其实并不是在半导体行业，而是表面刻录技术，与半导体行业半毛钱关系！同时，即便这项技术是表面功夫，也并不是性能最优秀的，国外的光刻技术远比这个先进！除此之外，这也并不是国内首款这样的光刻机，据了解，国内很多单位都具有这样的光刻技术，这一次的光刻机刷屏，不过是无良媒体，蹭热点乱带节奏罢了！芯片光刻机，这个技术的难度远非你所能想象我们都知道，只有荷兰的ASML能够造出高端的光刻机，而其在高端市场占比已经超过了80%以上，日本的尼康等也曾经在光刻机上投资并拥有技术，但最终没有竞争过荷兰ASML！在你们的印象中，荷兰有风车与奶牛，有牧场与农庄，但对于欧洲小国来说，没两把真刷子经济能如此发达？仅靠风车就能支持经济？同时据了解，光刻机技术非常难，包括台积电，三星，英特尔等芯片巨头，都不得不依仗ASML的高端光刻机！而整个行业的进步，同样需要依赖ASML的自我革新以及进步，也因为全球只此一家，ASML每年的研发费用达到了130亿欧元以上，但为了促进ASML研发生产出更高端的产品，三大半导体巨头还要为ASML出一半的研发资金，也就是65亿欧元，足以看出，ASML在行业的地位，有多的重要！中国的光刻机，差的太多，连日本佳能尼康，都无法在这方面突破，对于本来就起步晚的中国，可能只有不缺钱这一个优势了，想在这一行业有革命性的突破，真的是任重而道远！望不懂技术的媒体，不要在乱带节奏了！。
中国研制出世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机，在世界上属于什么水平？
魂舞大漠注意到了11月29日的消息，一内行有这样的评述，实事上，又一颗大白菜又被兔子给拱了。呵呵，我们高兴。有一门外汉却说了，这个只是实验品，用于芯片厂的我们有吗？还没有高精度镜头，也没有高精度对准技术，精度只是阿斯麦的十万分之一，可是我们看到，中芯国际订购的7纳米级EUV明年就到货了呢，噫，向来依据“瓦纳森协定”，这种光刻机可是对我严格禁止出口的，这又是怎么回事？美国挥动制裁大棒，制裁中兴，不过眼巴前发生的事呀，让我们通过实事，来戳穿一些谎言，一观实事真相如何？先来理清这位门外汉的迷雾，他说的这些，对我们来说都有了，技术上在国际上领了先，且领先不是一星半点，只是他根本不懂，人云亦云罢了。
